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M系列光束筆尖陣列光刻系統(tǒng)：聚合物筆無(wú)掩模光刻納米制造系統(tǒng)（polymer pen lithography）聚合物筆納米無(wú)掩模光刻制造系統(tǒng)PPL, 使用可達(dá)160000筆尖的陣列，采用蘸筆光刻DPN的方式，將待沉積的材料（墨水）浸蘸在筆尖陣列上，筆尖可控的與基底表面接觸，從而在基底表面批量成型所需圖案，加工納米微米圖案無(wú)需光掩膜，且在平方厘米范圍內(nèi)達(dá)到200納米以下的分辨率。
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